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Resch Sabine, Hrsg.: MO:DE 5 - Oberfläche

MODE-5-vorne
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Resch Sabine, Hrsg.: MO:DE 5 - Oberfläche


Resch Sabine, Hrsg.
MO:DE 5 - Oberfläche
München (Deutschland): AMD Akademie Mode & Design, 2013
(Zeitschrift, Magazin) 284 S., 28x21 cm,
Techn. Angaben Broschur, Cover aus glitzerndem Papier, verschiedene Papiere für den Bild- und Textteil
ZusatzInformation Die fünfte Ausgabe von[mo:de] ist dem Thema Oberfläche gewidmet. Für das jährlich erscheinende Magazin der AMD Akademie Mode & Design nahmen wir uns im Abschlussjahrgang als angehende Modejournalisten die Freiheit, aus der konventionellen Magazinstruktur auszubrechen, indem wir ihre gestalterischen Elemente isolierten: Text und Bild. Farbige Punkte auf den Seiten zeigen an, wie Fotos, Illustrationen, Interviews und Lesestücke zusammengehören. (Text aus dem Editorial)
Geschenk von Sabine Resch anlässlich der Ausstellung "GEGENKULTUR" in der PLATFORM München, 02.07.-28.07.2017.
Namen Antonio Prudente (Fotografie) / Holger Albrich (Fotografie) / Jean Marmeisse (Fotografie) / Lina (Illustration) / Magnus Lechner (Fotografie) / Marcus Schäfer (Fotografie) / Martin Denker (Illustration) / Martin Fengel (Illustration) / Matthias Ziegler (Fotografie) / Olaf Unverzart (Fotografie) / Oliver Spies (Fotografie) / Stephanie Füssenich (Fotografie) / Tina Berning (Illustration)
Sprache Deutsch
Geschenk von Sabine Resch
Stichwort Abschlussklasse / Fotografie / Fotografie / Kleidung / Kommunikation / Mode / Oberfläche / Zeichnung
WEB www.amdnet.de
TitelNummer
024661681 Einzeltitelanzeige (URI)


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Das Copyright für die abgebildeten Publikationen bleibt bei den jeweiligen Publizisten. Das Copyright für den Scan bzw. das Foto der jeweiligen Publikation liegt bei mir. Die Abbildungen werden hier aus historischen Gründen gezeigt und sollen helfen, allen Interessierten, Forschern und Sammlern sich ein Bild von der Vielfalt der künstlerischen Publikationen zu machen.
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